{{{sourceTextContent.title}}}

Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment lancia le architetture di sistemi integrati per gas di nuova generazione

{{{sourceTextContent.subTitle}}}

Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment lancia le architetture di sistemi integrati per gas di nuova generazione

{{{sourceTextContent.description}}}

SHANGHAI, CINA – Gli impianti avanzati di produzione microelettronica e gli stabilimenti di produzione di wafer semiconduttori di nuova generazione richiedono livelli senza precedenti di precisione, sicurezza ed efficienza nella distribuzione dei gas di processo. Per far fronte a queste rigorose esigenze della produzione moderna, la Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd. (CWSC) ha annunciato l’introduzione commerciale ufficiale dei propri pannelli per sistemi di distribuzione del gas integrati di nuova generazione. Realizzati all’interno delle strutture specializzate in camera bianca dell’azienda nel distretto di Songjiang a Shanghai, questa implementazione industriale si concentra su blocchi di erogazione del gas automatizzati e a montaggio superficiale, progettati per ottimizzare l’ingombro all’interno dei sub-fab, ridurre al minimo i profili di contaminanti residui e elevare notevolmente gli standard di sicurezza nella distribuzione delle sostanze chimiche all’interno delle zone di lavorazione dei wafer.

Collettori di commutazione semi-automatici in acciaio inossidabile ad alta purezza
Collettori di commutazione semi-automatici in acciaio inossidabile ad alta purezza
Man mano che le architetture di produzione dei semiconduttori a nodi avanzati si riducono a livelli sub-nanometrici, i circuiti di processo diventano sempre più sensibili alle impurità microscopiche, alle fluttuazioni di pressione e ai ritardi nel transito dei fluidi. I tradizionali pannelli di distribuzione del gas, ricchi di componenti e che si basano su estese linee coassiali, saldature manuali e grandi regolatori di flusso massico individuali, stanno rapidamente raggiungendo i propri limiti meccanici. Il passaggio a un sistema di distribuzione del gas integrato e altamente ingegnerizzato rappresenta un cambiamento evolutivo fondamentale per gli stabilimenti di produzione di wafer, le strutture di ricerca e gli impianti solari fotovoltaici che mirano a massimizzare il tempo di funzionamento delle apparecchiature riducendo al contempo lo spazio occupato nelle camere bianche.

L’architettura strutturale dell’avanzato sistema integrato di distribuzione del gas di Shanghai Chengwei utilizza una configurazione modulare specializzata a montaggio superficiale. Anziché collegare valvole, regolatori e filtri tramite linee di distribuzione individuali, i componenti sono montati direttamente su blocchi di base in metallo ad alta purezza dotati di canali interni per il fluido. Questo design specializzato elimina le zone morte interne o i rami morti in cui possono rimanere intrappolate tracce di gas speciali o umidità ambientale. Rimuovendo queste sacche di fluido, l’infrastruttura garantisce un rapido spurgo del gas, accelera i tempi di risposta durante le fasi di commutazione del gas e riduce significativamente il volume interno totale del circuito di distribuzione.

Realizzate all’interno della camera bianca di Classe 100 dell’azienda, con una superficie di 500 metri quadrati, per eliminare i contaminanti ambientali, le strutture di base utilizzano acciaio inossidabile 316L VIM/VAR elettrolucidato di prima qualità. I percorsi interni del fluido sono sottoposti a rigorosi trattamenti di passivazione chimica per garantire una finitura interna ultra-liscia, che impedisce il distacco di microparticelle e contrasti la corrosione causata da gas speciali aggressivi e volatili quali il cloruro di idrogeno, il cloro e l’ammoniaca. Ogni gruppo di blocchi incorpora guarnizioni a diaframma metallo-metallo ad alta durata, riducendo il tasso limite di perdita di elio fino alle soglie di vuoto ad altissima purezza.

La sicurezza operativa e la regolazione del flusso sono gestite da sistemi di controllo digitale integrati. Ogni blocco modulare si interfaccia direttamente con avanzati regolatori di portata massica, trasduttori di pressione e valvole di isolamento pneumatiche automatizzate. Questi circuiti digitalizzati comunicano tramite protocolli di rete industriali ad alta velocità, consentendo al controllore logico programmabile principale dello stabilimento di monitorare in tempo reale la temperatura del gas, la pressione del fluido e le portate. Per i processi chimici che coinvolgono sostanze reattive, infiammabili o piroforiche, il sistema di gas integrato è dotato di valvole di chiusura di emergenza automatizzate e di sensori di rilevamento continuo delle perdite collegati direttamente ai sistemi locali di trattamento dei gas di scarico tramite scrubber a umido situati nei sub-fab.

Grazie al consolidamento di complessi gruppi multivalvola in una griglia compatta e standardizzata, il sistema di gas integrato consente una riduzione fino al sessanta per cento dello spazio fisico richiesto rispetto ai pannelli di gas convenzionali. Questa massiccia riduzione dell’ingombro spaziale permette agli ingegneri di montare l’intera infrastruttura del gas più vicino al punto di utilizzo, riducendo al minimo le cadute di pressione a valle e garantendo la costanza delle linee di erogazione dei fluidi. Inoltre, il layout modulare semplifica la manutenzione in loco, consentendo ai tecnici dell’impianto di svitare e sostituire rapidamente i singoli moduli a montaggio superficiale senza smantellare le linee di processo adiacenti né causare tempi di inattività prolungati dell’impianto.

L’implementazione di questi sistemi di gas integrati avanzati consente ai produttori di semiconduttori e agli ingegneri di processo di ottenere la massima purezza dei fluidi, ridurre gli scarti chimici grezzi e stabilizzare le variabili di processo. Questo sviluppo tecnologico strategico soddisfa le rigorose linee guida internazionali in materia di conformità ambientale, riduce al minimo il costo totale di proprietà e fornisce una base eccezionalmente sicura per il ridimensionamento dei nodi avanzati, la deposizione di film sottili e i complessi processi di incisione al plasma in tutto il mondo.

Sistemi e componenti per il controllo dei fluidi nei semiconduttori
Sistemi e componenti per il controllo dei fluidi nei semiconduttori
Informazioni su Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd.:
Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd. (CWSC) è un’azienda specializzata nell’ingegneria e nella produzione, focalizzata sulle infrastrutture di erogazione di gas, sostanze chimiche e sospensioni di altissima purezza per l’industria dei semiconduttori e quella manifatturiera avanzata. Con sede nel distretto di Songjiang a Shanghai, l’azienda gestisce uno stabilimento di 4.000 metri quadrati che comprende un’area di produzione ultra-pulita di 2.500 metri quadrati e una camera bianca di Classe 100 di 500 metri quadrati. CWSC fornisce sistemi ad alta precisione che supportano il trattamento dei substrati, gestiscono le tracce di contaminanti e regolano la distribuzione delle sostanze chimiche all’interno degli impianti di produzione di wafer in tutto il mondo.

Contatto:
James Yuan
Shanghai Chengwei Semiconductor Equipment Co., Ltd
N. 9, Vicolo 345, Minshen Road, Distretto di Songjiang, Shanghai, Cina
Telefono: +86-13380377051
Sito web: https://www.chengweisemi.com/