Applicazione dell'alimentazione ad alta tensione nel fascio ionico

Specifiche di applicazione

Raggio di ioni

Un fascio di ioni è un fascio prodotto dall'accelerazione di ioni ad alta velocità. Gli ioni sono atomi o gruppi di atomi con carica positiva o negativa. L'accelerazione ionica è il movimento degli ioni verso la loro destinazione applicando una tensione arbitraria. La quantità di moto dell'acceleratore è proporzionale alla tensione applicata. In base all'applicazione del trasferimento di ioni, gli elettrodi che applicano la tensione sono l'elettrodo di accelerazione, l'elettrodo di estrazione, l'elettrodo di soppressione, l'elettrodo di deflessione, l'elettrodo di deviazione, ecc. Sono utilizzati nei motori ionici, nello sputtering a fascio ionico, nell'impiantazione ionica, nel fascio ionico focalizzato (FIB) e negli acceleratori. Per evitare che il potenziale all'interno del dispositivo sia polarizzato verso il potenziale degli ioni accelerati, in alcuni casi è possibile che venga neutralizzato elettricamente dall'accelerazione degli ioni per produrre ioni.

Per generare un fascio di ioni per il FIB, si utilizza una sorgente ionica di metallo liquido (LMIS) costituita da fili di tungsteno aghiformi collegati con gallio. Quando il filamento viene riscaldato e viene applicata una tensione all'elettrodo di estrazione, dalla punta viene generato un fascio di ioni. Gli ioni risultanti sono quindi controllati dai campi elettrici e magnetici dell'acceleratore, formando un flusso direzionale stretto. Il controllo del fascio ionico viene utilizzato per la scansione del fascio ionico. Gli ioni estratti dalla sorgente ionica vengono focalizzati da una lente di condensazione (CL) e il fascio ionico viene scansionato da un deflettore elettrostatico. I fasci di ioni sono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni, come l'iniezione di fasci di ioni, l'elaborazione di fasci di ioni e la microscopia ionica a scansione (SIM).

Un generatore di fasci ionici è costituito da una sorgente di ioni (cannone ionico), una lente elettromagnetica in un acceleratore e un deflettore. I fasci di ioni vengono fatti passare attraverso gli acceleratori per l'iniezione di ioni di impurità nei semiconduttori, la pulizia della superficie attraverso la fresatura ionica, il trattamento della superficie, la modifica della superficie e l'analisi della superficie e degli interni. Il fascio di ioni viene accelerato e decelerato nel vuoto da un campo elettrico e deflesso da un campo magnetico.

La separazione di massa degli ioni viene effettuata piegando gli ioni in un campo magnetico e l'analisi dell'energia viene effettuata con il metodo del campo elettrico decelerante e l'analisi statica della deflessione del campo elettrico.

Wisman offre un'ampia gamma di dispositivi di alimentazione per l'accelerazione, l'estrazione, la soppressione, la deflessione, la focalizzazione, l'ingranamento e la neutralizzazione degli ioni. Gli alimentatori Wisman per deflettori elettrostatici sono disponibili in un'ampia gamma di specifiche, in particolare offriamo amplificatori ad alta tensione con il più alto livello di velocità di risposta al mondo. Con la funzione di polarizzazione CC, è possibile regolare facilmente il punto di riferimento della scansione.

Alimentazione del fascio ionico:

SEM, HEM, EM