Zygo lancia Compass 2™

Con capacità di integrazione del tornio diamantato

Middlefield, CT - Zygo Corporation (una divisione di AMETEK) ha annunciato oggi il rilascio di Compass 2, il suo ultimo profilatore ottico con ottimizzazione DTM (Diamond Turning Machine) e capacità di metrologia di superficie a forma libera. A differenza di soluzioni comparabili, i perni dello stampo rimangono sull'attrezzatura di produzione durante la metrologia, riducendo i tempi di elaborazione dei dati e riducendo al minimo l'incertezza derivante dal rimontaggio e dal riallineamento del campione. Con i nuovi miglioramenti dell'interfaccia, Compass 2 ora offre prestazioni di deviazione della forma 3 volte migliori rispetto al Compass originale.

Nell'ultimo decennio, i sistemi di metrologia Compass e Compass RT hanno stabilito lo standard per la metrologia di superficie 3D automatizzata senza contatto e il controllo del processo di produzione per microobiettivi discreti e stampi per sistemi di imaging compatti, come fotocamere per tablet e smartphone, e sistemi di visione per autoveicoli.

Eric Felkel, Product Manager di ZYGO, afferma: “Il Compass 2 è progettato per l'analisi di superfici sferiche e asferiche simmetriche rotazionali, troncate geometricamente e a forma libera. Può misurare sia lenti discrete che perni per stampaggio a iniezione; e lo strumento è stato specificamente adattato per soddisfare le esigenze dei produttori che utilizzano questo processo con una serie di nuove funzionalità".

“Oltre alla semplice integrazione DTM, Compass 2 ha la precisione XYZ necessaria per riportare dati di rugosità a livello nm che includono la generazione automatica di texture ad alta frequenza e mappe della superficie dei segni di lavorazione. Una caratteristica unica è la possibilità di fare clic in un punto su una mappa di dati e il sistema naviga rapidamente in quella posizione specifica sul campione per un'ispezione più dettagliata".

Supporto per la correzione del percorso utensile di Diamond Turning Machine (DTM).

I dati ottenuti da Compass 2 possono ora essere utilizzati direttamente per ottimizzare un percorso utensile DTM esportando automaticamente i dati di deviazione della prescrizione 3D per l'uso con più piattaforme DTM e software multipiattaforma come DIFFSYS™.

Supporto per la configurazione dello strumento DTM

Compass 2 supporta la configurazione dell'utensile DTM con la misurazione dell'offset utensile e del raggio utensile per sfere e asfere e può segnalare la deviazione della superficie prevista dopo l'offset e la correzione del raggio.

Supporto per apparecchi DTM

La nuova interfaccia campione Compass 2 include un dispositivo standard per mandrino a vuoto che supporta mandrino/dime DTM con un diametro compreso tra 10 e 155 mm e un peso fino a 0,8 kg. I perni dello stampo possono rimanere sul loro dispositivo di produzione durante la metrologia, abbreviando i tempi di raccolta dei dati e riducendo al minimo l'incertezza derivante dal rimontaggio e dal riallineamento del campione, in particolare quando si eseguono misurazioni per la correzione del percorso utensile.

Supporto a forma libera

Con l'evolversi dei progetti per le fotocamere dei dispositivi mobili, le superfici a forma libera vengono sempre più utilizzate. Le forme libere sono progettate con poca o nessuna simmetria, il che le rende difficili da misurare per la maggior parte degli strumenti di metrologia. Compass 2 ora include sia l'analisi della superficie a forma libera che quella troncata nel suo pacchetto software. Compass 2 utilizza la sua capacità di tracciare una superficie durante la misurazione per acquisire la superficie a forma libera. La piattaforma calcolerà la deviazione di quella superficie tracciata rispetto alla prescrizione ottica della forma libera allo stesso modo delle tradizionali asfere su un'intera area di misurazione 3D.

Una piattaforma completamente nuova

Compass 2 è stato progettato da zero con un'enfasi sulla metrologia robusta e l'elevata affidabilità. Questo gioca sull'uso di strumenti metrologici altamente accurati in-process piuttosto che in-lab, e spesso lavorando in aree estremamente dinamiche e impegnative all'interno della fabbrica. I miglioramenti includono nuovi:

Piattaforma di isolamento con isolamento sismico 10 volte migliore

Struttura di supporto altamente ottimizzata

La custodia e la stazione utente sono completamente disaccoppiate dallo strumento

Il rack per elettronica separato isola le sorgenti di rumore dalla metrologia

L'armadio e il rack per apparecchiature consentono inoltre un'installazione più semplice, una manutenzione più semplice, un accesso più facile alle parti di misura e vibrazioni e turbolenze ridotte sulla macchina.

Gli strumenti metrologici legacy possono essere sfidati con la misurazione di angoli di pendenza più ampi, possono richiedere molto tempo, avere un piccolo campo di misurazione e avere una piccola distanza di lavoro. Il Compass 2 affronta queste sfide utilizzando l'interferometria a scansione di coerenza tridimensionale ottimizzata senza contatto con il field stitching, rendendolo la piattaforma preferita per le superfici micro-ottiche critiche per il sistema.